
Intel startet High-NA-Ära mit erstem produktionsreifen EUV-System
Intel hat die erste produktionsreife High-NA-EUV-Lithografieanlage der Industrie in Betrieb genommen. Dieser Meilenstein ebnet den Weg zur 14A-Chipfertigung und könnte das Kräfteverhältnis im Halbleiterkrieg neu ordnen. Die Installation und erfolgreiche Testphase des ASML-Systems im Januar 2026 markiert den Übergang von…









